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发布时间:2022-01-07 05:07:35
化学抛光的原理:金属试样表面各组成相的电化学电位不同,形成了许多微电势,在化学溶液中会产生不均匀溶解。在溶解过程中试样面表层会产生一层氧化膜,试样表面凸出部分由于粘膜薄,金属的溶解扩展速度较慢,抛光后的表面光滑,但形成有小的起伏波形,不能达到十分理想的要求。
在化学抛光过程中,金属零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解,且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性,表面微观凸起部位优先溶解,且溶解速率大于凹下部位的溶解速率;而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行,只是其速率有差异,结果使金属零件表面粗糙度得以整平,从而获得平滑光亮的表面。化学抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷,从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。
化学抛光主要用不锈钢、铜及铜合金等。化学抛光对钢铁零件,尤其是低碳钢有较好的抛光效果,所以对于一些机械抛光时较为困难的钢铁零件,可采用化学抛光。
化学抛光,是借化学作用,将工件浸入化学抛光溶液中进行表面处理,以减小工件的表面粗糙度值。在工业上,铝的化学抛光应用得。镀锌层和镀镉层的光亮钝化处理,就是化学抛光的一种应用。
化学抛光一般是指在化学溶液中,不接通外部电源,利用化学侵蚀对工件表面进行抛光的一个过程。在化学抛光进行时,从微观层面看,因为,金属表面会形成类似电解抛光过程中形成的黏膜或者钝化膜,所以,是表面微观凸出部分的溶解速度,要明显大于微光凹入部分,所以,提升了零件表面微观平整度,从而达到零件表面的光亮平整。
首一阶段是化学抛光时金属表面现象的几何凸凹的整平,去除较粗糙的表面不平度,获得平均为数微米到数十微米的光洁度;第二阶段是晶界附近的结晶不完整部分的平滑化,去除微小的不平,在0.1~0.01μm,相当于光波长的范围。可将阶段称为宏观抛光或平滑化,把第二阶段称为微观抛光或光泽化。化学抛光的优点是化学抛光设备简单,不需要什么特殊设备,只需要一个盛抛光液的玻璃杯和夹持试样的夹子就可以了。如果用细薄磨料片切割的试样,切割后不需要砂纸磨光,即可直接抛光。有些非导体材料也可以用化学抛光,非导体嵌镶的试样也可以直接抛光。化学抛光也可以处理形状比较复杂的零件。
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